Xstream RPS(6L)
系統、設備、零件
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規格介紹:
Xstream RPS(6L)
規格介紹:遠端電漿源
Xstream® 遠程電漿源
高效能 Xstream® 遠程電漿源平臺提供自穩定輸送的原料氣體中生成的中性活性種，用於表面改性、反應室清洗潔、薄膜蝕刻以及電漿輔助沉積。
安裝在製程反應室外的 Xstream 平臺整合了遠距電漿源，6 kW 或8 kW 的高效能電源以及已獲得專利的固態主動式匹配網路。該匹配網路在一個反應室清洗源應用上擁有最寬廣的商業化阻抗運行範圍。Xstream 遠程電漿源讓製程工程師在反應氣體製程上擁有無與倫比卓越的反應氣體製程靈活性，從而提高了系統生產能量，將昂貴資源的使用率最佳化。
Xstream® 遠程電漿源
高效能 Xstream® 遠程電漿源平臺提供自穩定輸送的原料氣體中生成的中性活性種，用於表面改性、反應室清洗潔、薄膜蝕刻以及電漿輔助沉積。
安裝在製程反應室外的 Xstream 平臺整合了遠距電漿源，6 kW 或8 kW 的高效能電源以及已獲得專利的固態主動式匹配網路。該匹配網路在一個反應室清洗源應用上擁有最寬廣的商業化阻抗運行範圍。Xstream 遠程電漿源讓製程工程師在反應氣體製程上擁有無與倫比卓越的反應氣體製程靈活性，從而提高了系統生產能量，將昂貴資源的使用率最佳化。
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